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產品詳情
特征：面形精度高、超光滑表面、抗激光損傷閾值高
應用領域：軟X射線探測器、軟X射線顯微鏡、軟X射線投影光刻機、紫外激光器、紫外激光打標機、激光陀螺等。
對材料的要求：
材料：JGS1、康寧7980、賀利氏312等熔石英及微晶、晶體等
折射率nd允許差值：±2×10-4
色散系數vd允許差值：±0.2%
光學均勻性：±2×10-6
應力雙折射：2-5nm/cm
條紋度：C
氣泡度：a0
光吸收系數：k200＜0.005cm-1
技術指標：
|
直徑（mm） |
徑厚比 |
光潔度（S/D） |
反射PV@λ=632.8nm |
平行度 |
表面粗糙度Rq（nm） |
有效口徑 |
尺寸公差（mm） |
|
φ8-φ30 |
10:1 |
5-1 |
1/20λ |
2” |
0.2 |
90% |
±0.05 |
|
φ30-φ60 |
10:1 |
5-1 |
1/20λ |
2” |
0.2 |
90% |
±0.05 |
關鍵詞:
超光滑光學元件
上一個
無
下一個
無
